
Установка магнетронного напыления с тремя мишенями DC2RF с ионным источником
54 866 700 ₸
Показать оптовые цены- Под заказ
- Оптом и в розницу
- Код: CY-MSP500S-DC2RF-I
Отправка с 09 мая 2026- +7 (708) 965-41-55Офис Call-центр
Установка с ионным источником и двухтаргетным магнетронным напылением — это специализированная лабораторная установка для нанесения покрытий с четырьмя мишенями, разработанная нашей компанией. Оснащена двумя источниками питания постоянного тока (DC) и двумя источниками питания радиочастотного тока (RF). Может использоваться для получения однослойных или многослойных ферроэлектрических тонких плёнок, проводящих плёнок, сплавных плёнок, полупроводниковых плёнок, керамических плёнок, диэлектрических плёнок, оптических плёнок и др.
Особенности установки с ионным источником и двухтаргетным магнетронным напылением:
-
По сравнению с обычным плазменным распылением, магнетронное напыление обладает преимуществами высокой энергии, высокой скорости, высокой скорости осаждения и низкого повышения температуры образца;
-
Магнетронная мишень оснащена водоохлаждаемым межслойным каналом. Водяное охлаждение эффективно отводит тепло и предотвращает его накопление на поверхности мишени, что обеспечивает стабильную длительную работу магнетронной системы напыления;
-
В данной модели используется схема с расположением мишеней внизу, при этом столик для образцов находится сверху. Высота относительно поверхности мишени может быть точно отрегулирована программно; столик может вращаться и нагреваться, обеспечивая отличные эксплуатационные характеристики.
|
Установка магнетронного напыления с тремя мишенями CY-MSP500S-DC2RF-I |
|||
|
Держатель подложки |
Размеры |
ø150mm |
|
|
Диапазон нагрева |
От комнатной~800℃ |
||
|
Регулируемая скорость |
1-20 об/мин |
||
|
Мишень магнетрона |
Форма мишени |
Круглая |
|
|
Вакуум напыления |
0.2Pa~10Pa |
||
|
Диаметр мишени |
50~50.8mm |
||
|
Толщина мишени |
≤3mm |
||
|
Напряжение пробоя |
>2000V |
||
|
Кабель соединения |
SL-16 |
||
|
Температура головки мишени |
≦65℃ |
||
|
Вакуумная камера |
Обработка внутренней полости |
Электролитическая полировка |
|
|
Размер камеры |
Φ500mm × 500mm |
||
|
Материал камеры |
304 нержавеющая сталь |
||
|
Смотровое окно |
Кварцевое стекло ø100mm |
||
|
Способ открытия |
спереди |
||
|
Контроль газа |
Контроль потока |
Мультиканальный масс-расходомер, диапазон 0~200SCCM |
|
|
Тип газа |
Ar, N2, O2 и другие |
||
|
Тип регулирующего клапана |
Электромагнитный клапан |
||
|
Статическое состояние регулирующего клапана |
Закрытое положение |
||
|
Линейность измерения |
±1.5%F.S |
||
|
Повторяемость измерений |
±0.2%F.S |
||
|
Время отклика при измерении |
≤8 seconds(T95) |
||
|
Диапазон рабочих давлений |
0.3MPa |
||
|
Давление в корпусе клапана |
3MPa |
||
|
Рабочая температура |
(5~45) ℃ |
||
|
Материал корпуса клапана |
Stainless steel 316L |
||
|
Степень утечки в корпусе клапана |
1×10-8Pa.m3/s |
||
|
Соединения труб |
1/4″Card sleeve joint |
||
|
Входной и выходной сигналы |
0~5V |
||
|
Источник питания |
±15V (±5%)(+15V 50mA, -15V 200mA ) |
||
|
Размеры, мм |
130 (width) × 102 (height) × 28 (thickness) |
||
|
Интерфейс связи |
RS485 MODBUS protocol |
||
|
Источник питания |
Мощность |
500Вт источник питания DC*2 штуки +500Вт источник питания RF |
|
|
Регулировка мощности |
0~500W |
||
|
Количество источников питания |
2 комплекта DC +1 комплект RF |
||
|
Регулировка параметров |
Постоянный ток, напряжение, мощность |
||
|
RF адаптер |
Головка N-типа |
||
|
Питание |
220В, 50Гц |
||
|
Охлаждение |
Усиленное воздушное охлаждение |
||
|
Температура окружающей среды |
-10℃ -- 40℃ |
||
|
Интервейс коммуникации |
DB15/DB25 analog interface, RS485/RS232 |
||
|
Вес источник питания |
3.8Kg |
||
|
Размеры |
89 mm (H)×483 mm (W)×200 mm (D) |
||
|
Источник ионов с анодным слоем |
3 дюймовый, 2kW |
||
|
Измерение толщины пленки |
Требования к питанию |
DC: 5V (±10%) Maximum current 400mA |
|
|
Разрешение |
±0.03Hz(5-6MHz),0.0136Å /Measurement (aluminum) |
||
|
Точность измерения |
±0.5% thickness + 1 count |
||
|
Период измерения |
100mS~1S/time (can be set) |
||
|
Диапазон измерения |
500,000 Å (aluminum) |
||
|
Частота кристалла |
6MHz |
||
|
Интерфейс связи |
RS-232/485 Serial interface |
||
|
Цифры на дисплее |
8-значный Led-дисплей |
||
|
Вакуумная система |
Турбомолекулярный насос |
|
|
|
Скорость откачки |
600L/S |
||
|
Значение вибрации |
≦0.1um |
||
|
Время запуска |
≦4.5min |
||
|
Простой |
<7min |
||
|
Способ охлаждения |
Air-cooled |
||
|
Механический насос |
Rotary vane pump |
||
|
Скорость откачки |
1.1L/s(VRD-4) |
||
|
Источник питания |
AC:220V/50Hz |
||
|
Мощность двигателя |
400W |
||
|
Шум |
≦56db |
||
|
Всасывающий патрубок |
KF40 |
||
|
Выпускной патрубок |
KF16 |
||
|
Выпускной клапан |
Electromagnetic bleed valve is installed on the vacuum chamber |
||
|
Вакуумметр |
Resistance gauge + ionization gauge |
||
|
Максимальный вакуум во всей машине |
≦5×10-4Pa |
||
|
Испытательная мишень |
Испытательная мишень 1 медная мишень диаметром 2 дюйма и толщиной 3 мм |
|
|
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Valve |
- Цена: 54 866 700 ₸

