Прибор для напыления с ионным источником и двухтаргетной системой магнетронного распыления

Установка с ионным источником и двухтаргетным магнетронным напылением — это специализированная лабораторная установка для нанесения покрытий с четырьмя мишенями, разработанная нашей компанией. Оснащена двумя источниками питания постоянного тока (DC) и двумя источниками питания радиочастотного тока (RF). Может использоваться для получения однослойных или многослойных ферроэлектрических тонких плёнок, проводящих плёнок, сплавных плёнок, полупроводниковых плёнок, керамических плёнок, диэлектрических плёнок, оптических плёнок и др.

Особенности установки с ионным источником и двухтаргетным магнетронным напылением:

• По сравнению с обычным плазменным распылением, магнетронное напыление обладает преимуществами высокой энергии, высокой скорости, высокой скорости осаждения и низкого повышения температуры образца;

• Магнетронная мишень оснащена водоохлаждаемым межслойным каналом. Водяное охлаждение эффективно отводит тепло и предотвращает его накопление на поверхности мишени, что обеспечивает стабильную длительную работу магнетронной системы напыления;

• В данной модели используется схема с расположением мишеней внизу, при этом столик для образцов находится сверху. Высота относительно поверхности мишени может быть точно отрегулирована программно; столик может вращаться и нагреваться, обеспечивая отличные эксплуатационные характеристики.