Данная установка предназначена для сухого реактивного ионного травления (RIE) субмикронных структур с использованием комбинированного физико-химического механизма травления, что позволяет формировать высокоточные топологические рисунки.
Основные преимущества оборудования:
- высокая селективность травления;
- высокая скорость травления;
- отличная повторяемость технологического процесса.
Область применения
Установка предназначена для обработки стандартных пластин диаметром до 6–8 дюймов и подходит для:
- научно-исследовательских институтов;
- университетов;
- производственных предприятий;
- опытного и мелкосерийного производства.
Обрабатываемые материалы
Оборудование позволяет выполнять травление следующих материалов:
- диоксид кремния (SiO₂);
- нитрид кремния (Si₃N₄);
- карбид кремния (SiC);
- нитрид галлия (GaN);
- арсенид галлия (GaAs);
- ITO;
- AZO;
- поликристаллический кремний;
- кремний;
- фоторезист;
- полупроводниковые материалы;
- некоторые металлы.
Конструкция и особенности
Установка оснащена:
- двухкамерной системой загрузки и выгрузки пластин;
- вакуумным шлюзом (Load-Lock);
- двухзахватным роботизированным манипулятором.
При контроле со стороны оператора оборудование обеспечивает непрерывную работу камеры травления, что значительно повышает коэффициент использования установки и производительность.
Конструкция отличается:
- высокой надежностью;
- простотой эксплуатации;
- оптимальным соотношением стоимости и производительности.
Безопасность системы
Высокий уровень безопасности обеспечивается за счет сочетания программных и аппаратных решений, включая:
- систему датчиков;
- систему межблокировок (Interlock);
- контроль времени выполнения операций;
- интеллектуальный мониторинг;
- сохранение текущего состояния оборудования;
- защиту при аварийном завершении работы;
- журнал безопасности;
- журнал действий оператора.
Такая система исключает повреждение оборудования вследствие ошибок оператора.
Области применения
- микроэлектроника;
- оптоэлектроника;
- телекоммуникации;
- микромеханика (MEMS);
- новые материалы;
- новая энергетика;
- научные исследования.
Основные технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Вакуумная система | Коррозионностойкая система на базе турбомолекулярного насоса |
| Количество вакуумных камер | 2 (камера травления и загрузочная камера Load-Lock) |
| Камера травления | Высоковакуумная |
| Загрузочная камера (Load-Lock) | Низковакуумная или высоковакуумная, загрузка двух пластин, автоматическая передача образцов в камеру травления |
| Устойчивость к агрессивным газам | RIE-8100 — устойчивость к фторсодержащим и менее агрессивным газам; RIE-8101 — устойчивость к хлорсодержащим и менее агрессивным газам |
| Максимальный размер пластин | Ø6 дюймов |
| Скорость травления | 0,1–4 мкм/мин (в зависимости от материала и технологического процесса) |
| Равномерность травления | ±5 % |
| Рабочий стол | Регулируемый по высоте (0–60 мм), точность регулировки 1 мм |
| Конфигурация питания | Верхний электрод — RF (высокочастотный генератор), нижний электрод — Bias, автоматическое согласующее устройство |
| Стандартное охлаждение образцов | Водяное |
| Газовые линии | 6 стандартных коррозионностойких линий с возможностью расширения до 8 |
| Контроль окончания процесса травления (Endpoint Detection) | Опция |
| Режимы работы | Полностью автоматический / полуавтоматический |
| Производственный режим | Непрерывная работа (Continuous Production) |
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Китай |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 31 августа 2026