Назначение высокотемпературной приставки
Высокотемпературная приставка используется для изучения изменений кристаллической структуры образца в процессе нагрева, а также для анализа взаиморастворения различных веществ при высоких температурах.
Технические параметры высокотемпературной приставки
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Диапазон температур (в среде инертного газа) | От комнатной температуры до 1200 ℃ |
| Диапазон температур (в вакууме) | До 1600 ℃ |
| Точность контроля температуры | ±0,5 ℃ |
| Материал окна | Полиэфирная пленка |
| Режим охлаждения | Циркуляционное охлаждение деионизированной водой |
Информация для заказа
- Цена: Цену уточняйте



Отправка с 17 апреля 2026