Установка ультрафиолетово-озонной очистки L2002A3-US
Цену уточняйте
- Под заказ
- Оптом и в розницу
- Код: L2002A3-US
Отправка с 29 августа 2026
Установка для УФ-озонной очистки поверхностей Ossila позволяет всего за несколько минут удалять загрязнения с поверхности подложек и образцов.
Высокомощный источник ультрафиолетового излучения генерирует озон и разлагает органические загрязнения на поверхности, обеспечивая получение практически атомарно чистой поверхности без повреждения образца. Летучие соединения, образующиеся в результате разложения загрязнений, быстро испаряются, после чего образец готов к следующему этапу исследования или технологического процесса.
Рабочая зона очистки имеет диаметр 153 мм (6"), что позволяет одновременно обрабатывать несколько образцов, предметные стекла или чашки Петри.
Во время работы встроенное программное обеспечение контролирует температуру внутри установки и отображает температуру рабочей платформы, ультрафиолетовой лампы и электронных компонентов, предотвращая перегрев чувствительных образцов.
Установка является универсальным лабораторным оборудованием и подходит для обработки широкого спектра материалов в различных научных и исследовательских задачах.
Технические характеристики
Ультрафиолетовый источник излучения
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Тип лампы | Газоразрядная ртутная лампа низкого давления |
| Размеры лампы (Д × Ø) | 150 × 15 мм |
| Количество ламп | 4 |
| Основные длины волн излучения | 185 нм и 254 нм |
| Срок службы лампы | T80 — 2000 часов |
Параметры обработки образцов
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Интенсивность УФ-излучения на поверхности образца | 15 мВт/см² при длине волны 185 нм |
| Рабочая зона очистки | Диаметр 153 мм (6") |
| Время обработки | От 1 секунды до 60 минут, с цифровым управлением |
Габариты и масса
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Габаритные размеры (Ш × Г × В) | 210 × 310 × 228 мм (8,27" × 12,20" × 8,98") |
| Рабочая зона облучения | Круг диаметром 153 мм (6") |
| Максимальная высота образца | 12 мм (0,47") |
| Масса | 5,25 кг |
Преимущества
Высокоинтенсивные УФ-лампы
Установка оснащена несколькими высокоинтенсивными кварцевыми газоразрядными ртутными лампами низкого давления. Излучение с длинами волн 185 нм и 254 нм обеспечивает образование озона. Высокая интенсивность излучения позволяет быстро очищать поверхность и обрабатывать образцы на большой площади.
Большая рабочая зона очистки
Рабочий лоток позволяет размещать образцы диаметром до 153 мм (6") и высотой до 12 мм (0,47"), включая:
- предметные стекла;
- фрагменты подложек (Diced Substrates);
- чашки Петри;
- зонды атомно-силового микроскопа (AFM Tips).
Простой пользовательский интерфейс
Яркий LCD-дисплей и тактильные кнопки обеспечивают удобное управление системой.
Встроенное программное обеспечение непрерывно контролирует температуру внутри установки и отображает температуру рабочего лотка, УФ-ламп и электронных компонентов, что помогает предотвратить перегрев чувствительных образцов.
- Цена: Цену уточняйте