Компактное оборудование для нанесения и проявления фоторезиста CCD

Компактное оборудование для нанесения и проявления фоторезиста представляет собой систему с экономией рабочего пространства без потери производительности.

Оно идеально подходит для лабораторий с ограниченной площадью и пилотных производственных линий, поддерживает работу как с круглыми, так и с квадратными пластинами (wafers) размером от 50 до 200 мм, и совместимо с различными типами подложек.

Данная система обеспечивает точное нанесение фоторезиста и эффективное проявление в процессах литографии g-line, i-line и PI.

Область применения

• Полупроводниковые соединения
• Силовая электроника
• MEMS (микроэлектромеханические системы)
• Радиочастотные интегральные схемы (RF IC)
• Светодиоды (LED)
• Оптические устройства
• Научно-исследовательские проекты

Особенности оборудования

1. Компактные размеры, высокая стабильность, простота эксплуатации и обслуживания
2. Удобный и интуитивно понятный интерфейс управления
3. Подходит для научных исследований и мелкосерийного лабораторного производства

Основные параметры

• Количество кассет: 2 & 3 CS
• Тип пластин: круглые и квадратные
• Размер пластин: 50–200 мм
• Конфигурация: 1C1D / 2C / 2D
• Материалы подложек: Si, стекло, сапфир, GaN, GaAs, SiC, LiTaO₃, Li₃PO₄
• Поддерживаемые литографические процессы: g-line, i-line, i-line, PI