Данная установка предназначена для нанесения различных тонких пленок (металлических, неметаллических и композиционных) на поверхность плоских и аналогичных по форме образцов методом магнетронного распыления.
Оборудование специально разработано для университетов, научно-исследовательских институтов и производственных предприятий и подходит для проведения научных исследований, опытно-конструкторских работ и учебных целей.
Конструкция и особенности
Установка выполнена по двухкамерной схеме. Круглая магнетронная мишень в камере распыления установлена под углом.
Оборудование обеспечивает:
- нанесение однослойных и многослойных тонкопленочных покрытий;
- осаждение сплавов;
- легирование тонких пленок методом совместного магнетронного распыления (co-sputtering).
Использование компактных магнетронных мишеней позволяет выполнять нанесение покрытий на образцы большой площади при снижении эксплуатационных затрат.
Установка оснащена камерой предварительного вакуумирования (Load-Lock) и роботизированным манипулятором для автоматического переноса образцов. Это обеспечивает:
- поддержание высокого вакуума в основной камере распыления;
- сокращение времени вакуумной подготовки;
- возможность предварительной очистки образцов в загрузочной камере.
Предусмотрены два варианта исполнения:
- SP-3200 — мишень расположена сверху, распыление осуществляется сверху вниз;
- SP-3200T — мишень расположена снизу, распыление осуществляется снизу вверх.
Безопасность системы
Безопасность и надежность оборудования обеспечиваются комплексом программных и аппаратных средств, включающим:
- систему датчиков;
- систему межблокировок (Interlock);
- контроль времени выполнения операций;
- интеллектуальный мониторинг состояния оборудования;
- сохранение текущего состояния системы;
- защиту при аварийном завершении работы;
- журнал безопасности;
- журнал операций.
Данные функции позволяют предотвратить возникновение неисправностей оборудования вследствие ошибок оператора.
Области применения
- микроэлектроника;
- оптоэлектроника;
- телекоммуникации;
- микромеханика (MEMS);
- новые материалы;
- новая энергетика;
- научные исследования.
Основные технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Вакуумная система | Система на базе молекулярного насоса |
| Количество вакуумных камер | 2 (камера распыления и загрузочная камера Load-Lock) |
| Камера распыления | Высоковакуумная |
| Загрузочная камера (Load-Lock) | Низковакуумная или высоковакуумная, с автоматической передачей образцов |
| Количество магнетронных источников | 1–4 |
| Размеры магнетронных мишеней | Ø50, Ø60, Ø80, Ø100 мм |
| Материалы для распыления | Металлы, магнитные материалы, диэлектрики, соединения металлов, неметаллические соединения, полупроводниковые материалы и др. |
| Расположение мишени | SP-3200: сверху, распыление сверху вниз; SP-3200T: снизу, распыление снизу вверх |
| Источники питания | RF (высокочастотный), DC (постоянный ток), импульсный DC, DC Bias |
| Размер образцов | Один образец диаметром 2–6 дюймов |
| Вращение столика | 0–30 об/мин, плавная регулировка скорости |
| Стандартный нагрев | От комнатной температуры до 600 °C, точность поддержания температуры ±1% |
| Опция | Высокотемпературный нагреватель |
| Неравномерность покрытия | ±3…±5% |
| Скорость напыления | Зависит от материала и технологического процесса (уточняется у производителя) |
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Китай |
| Состояние | Новое |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 06 октября 2026