Описание
4-позиционная система SILAR предназначена для нанесения тонких пленок методом последовательной адсорбции и реакции ионных слоев (SILAR). Технология основана на многократном погружении подложки в химический раствор и деионизированную воду, что позволяет формировать равномерные тонкие покрытия.
Установка оснащена герметичной рабочей камерой со смотровым окном, а также входным и выходным клапанами для продувки инертным газом. Это защищает образцы от воздействия влаги и кислорода после завершения процесса нанесения покрытия.
Внутри камеры предусмотрены четыре независимые рабочие позиции для емкостей с растворами, каждая из которых оснащена собственной магнитной мешалкой с индивидуальной регулировкой скорости.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Напряжение питания | 208–240 В AC, 50/60 Гц |
| Герметичная камера | Входной и выходной клапаны для продувки инертным газом |
| Размер камеры | 640 × 475 × 575 мм |
| Привод | Шаговый двигатель |
| Механизм перемещения | Винтовая передача (Lead Screw) |
| Время погружения | 0–99 секунд / минут / часов |
| Скорость перемещения | 2–9000 мкм/с, цифровая регулировка |
| Количество циклов погружения | 1–999 |
| Скорость магнитной мешалки | 0–999 об/мин |
| Управление мешалками | Независимая регулировка для каждой из 4 позиций |
| Максимальная длина хода | 100 мм |
| Система управления | LED-дисплей, настройка скорости и режимов |
| Гарантия | 1 год, пожизненная техническая поддержка |
| Габаритные размеры | 575 × 500 × 640 мм |
| Вес | 130 кг |
| Вес и размеры при транспортировке | 136 кг (300 lbs), 1016 × 1016 × 1016 мм (40 × 40 × 40") |
| Дополнительные параметры* | DC 500 Вт + RF 300 Вт; двойная магнетронная распылительная головка; двойной монитор толщины пленки; молекулярный насос (до 5×10⁻³ Па); два массовых расходомера; вращающийся нагреваемый держатель образцов; водяной охладитель и воздушный компрессор |
Характеристики
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Китай |
Информация для заказа
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 06 октября 2026