Thermo Scientific K-Alpha — интегрированная XPS-система для быстрого и эффективного химического анализа поверхности. В конструкции используется прецизионная вакуумная камера, микрофокусированный монохроматический источник Al Kα, высокоэффективный электронный спектрометр, система компенсации заряда и автоматизированный ионный источник. Система предназначена для исследования элементного состава, химического состояния и распределения компонентов на поверхности, а также для профилирования по глубине.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Модель | K-Alpha |
| Метод анализа | XPS / РФЭС |
| Анализатор | Полусферический, двойная фокусировка |
| Средний радиус анализатора | 125 мм |
| Геометрия анализатора | 180° |
| Детектор | 128-канальный позиционно-чувствительный |
| Режим работы анализатора | CAE |
| Диапазон кинетической энергии | 5–1500 эВ |
| Минимальный шаг энергии | 3 мэВ |
| Энергия пропускания | 1–400 эВ, непрерывно регулируемая |
| Режимы сбора данных | Scanned, Snapshot, SnapMap |
| Рентгеновский источник | Микрофокусированный монохроматический Al Kα |
| Размер рентгеновского пятна | 50–400 мкм |
| Шаг изменения размера пятна | 5 мкм |
| Максимальная мощность рентгеновского источника | 72 Вт |
| Номинальное напряжение электронной пушки | 12 кэВ |
| Максимальный размер образца | 60 × 60 × 20 мм |
| Давление в аналитической камере | обычно лучше 2 × 10⁻⁷ мбар |
| Программное обеспечение | Thermo Scientific Avantage |
Особенности
Высокопроизводительная XPS-система
K-Alpha предназначен для быстрого и точного химического анализа поверхности и сочетает высокую производительность с автоматизированным рабочим процессом.
Микрофокусированный рентгеновский источник
Монохроматический источник Al Kα позволяет выбирать размер рентгеновского пятна от 50 до 400 мкм с шагом 5 мкм, что удобно для локального анализа участков образца.
Высокоточный анализатор
Полусферический анализатор с двойной фокусировкой и 128-канальным детектором обеспечивает регистрацию XPS-спектров в диапазоне кинетической энергии 5–1500 эВ.
Компенсация заряда
Двухлучевая электронно-ионная система нейтрализации заряда позволяет проводить анализ непроводящих и изолирующих материалов.
Профилирование по глубине
Автоматизированный ионный источник с энергией 200 эВ–4 кэВ используется для послойного травления и очистки поверхности образцов.
XPS SnapMap
Функция SnapMap обеспечивает быстрое химическое картирование выбранных областей поверхности и упрощает поиск интересующего участка образца.
Автоматизированный 4-осевой столик
Высокоточный столик обеспечивает автоматическое позиционирование образцов размером до 60 × 60 × 20 мм.
Вакуумный перенос образцов
Опциональный модуль позволяет переносить чувствительные к воздуху образцы из инертной среды в спектрометр без контакта с атмосферой.
Корреляционный XPS/SEM-анализ
Специальный держатель позволяет использовать одни и те же образцы для анализа в XPS- и SEM-системах с сохранением положения исследуемых областей.
Программное обеспечение Avantage
ПО обеспечивает управление прибором, получение спектров, картирование, линейное сканирование, профилирование по глубине, обработку результатов и автоматическое формирование отчетов.
Применение
- анализ элементного состава поверхности;
- определение химического состояния элементов;
- исследование тонких пленок и покрытий;
- анализ полупроводниковых материалов;
- исследование наноматериалов;
- анализ оксидов и металлических поверхностей;
- исследование полимеров;
- анализ аккумуляторных и электродных материалов;
- исследование катализаторов;
- анализ 2D-материалов;
- Цена: 593 005 000 ₸



Отправка с 31 октября 2026