OPTO-EDU A50.7038 — многофункциональная ионно-лучевая система 3-в-1 для подготовки образцов методом ионного фрезерования, полировки, травления и высоковакуумного напыления. Установка предназначена для подготовки образцов для TEM, SEM и EBSD и поддерживает как поперечную, так и плоскостную обработку. Также предусмотрено ионное напыление с использованием Pt- или Au-мишеней.
Система оснащена двумя независимо управляемыми ионными пушками, механическим и турбомолекулярным насосами, 10-дюймовым цветным сенсорным экраном и встроенным компьютером. Обработка выполняется в вакууме, а параметры можно контролировать как локально, так и удаленно с компьютера или мобильного устройства.
A50.7038 подходит для металлов, керамики, углеродных материалов, полимеров, минералов, полупроводников и многокомпонентных образцов. Ионная обработка позволяет уменьшить повреждение поверхности, сформированное механической или химической полировкой, и получить более достоверную структуру поверхности для последующего микроскопического анализа.
Технические характеристики
Ионная система
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Ионы | Ar, опционально Xe |
| Количество ионных пушек | 2 диагональные, независимо управляемые |
| Возможное расширение | до 4 ионных пушек |
| Расположение пушек | 90° или 180° |
| Энергия ионного пучка для низкоэнергетической полировки | 0–6 кВ |
| Энергия ионного пучка для высокоэнергетического травления | 0–10 кВ |
| Максимальная плотность ионного тока | 10 мА/см² |
| Размер пятна пучка | 300–500 мкм и 1,5–2,5 мм |
| Расход газа | 0–10 мл/мин, регулируемый |
Производительность полировки
| Режим | Максимальная скорость для Si |
|---|---|
| Поперечное сечение / локальное травление и полировка | 500 мкм/ч |
| Плоскостное травление и полировка | 100 мкм/ч |
| Планарное вращательное травление и полировка | 10 мкм/ч |
Камера и столик образца
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Максимальный размер образца | Ø25 мм |
| Диапазон размера образца | Ø0–25 мм |
| Угол травления и полировки | 0–90° |
| Стандартный угол | 0° |
| Вращение столика | непрерывное 360° |
| Скорость вращения | 6–10 об/мин |
| Типы обработки | плоскостная и поперечная |
Вакуумная система
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Насосная система | механический + турбомолекулярный насос |
| Предельный вакуум | 5 × 10⁻³ Па |
| Контроль вакуума | цифровой |
| Время откачки при смене образца | 2,5 мин |
| С быстросменным устройством | 30–60 с |
Система охлаждения образца
Предусмотрены две опциональные системы охлаждения.
Полупроводниковое охлаждение
- охлаждение от комнатной температуры до −25 °C;
- используется четырехступенчатый охлаждающий модуль;
- максимальная разница температур — 107 °C;
- применяется теплопроводящая площадка мощностью 900 Вт.
Охлаждение жидким азотом
- достижимая температура — до −150 °C.
Управление
Установка оснащена 10-дюймовым цветным сенсорным дисплеем со встроенным компьютером и полностью автоматизированным программным управлением. После задания параметров система может выполнять цикл обработки автоматически.
Программная среда работает на Ubuntu и включает:
- управление расходом газа;
- управление высоким напряжением;
- управление вакуумом;
- управление остановкой системы;
- независимое управление двумя ионными источниками.
Также поддерживается удаленное управление с компьютера или мобильного телефона.
Габариты и питание
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Габариты основного блока | 380 × 405 × 560 мм |
| Масса основного блока | 48 кг |
| Потребляемая мощность | <1 кВт |
| Питание | 220 В ±10%, 1 фаза |
| Частота | 50 Гц ±1 |
| Давление Ar | 25 psi |
| Рабочая влажность | <80% |
| Режим работы | непрерывный |
Особенности
- Функциональность 3-в-1 — ионное фрезерование/полировка, травление и высоковакуумное напыление в одной системе.
- Две независимые ионные пушки — позволяют гибко задавать геометрию и режим обработки.
- Поддержка поперечного и плоскостного препарирования.
- Большая рабочая зона — образцы диаметром до 25 мм.
- Минимальное повреждение поверхности — особенно важно для тонких пленок и термочувствительных полимеров.
- Высокая повторяемость — точное цифровое управление параметрами процесса.
- Работа с различными материалами — металлы, керамика, углерод, полимеры, минералы и полупроводники.
- Очистка в той же вакуумной камере — снижает риск загрязнения образца между операциями.
- Опциональное реактивное ионное травление.
- Автоматизированное управление через 10-дюймовый сенсорный экран.
- Удаленное управление с ПК и мобильных устройств.
- Опциональное низкотемпературное охлаждение до −25 °C или −150 °C.
- Возможность высоковакуумного напыления Au и Pt.
Применение
- подготовка образцов для SEM;
- подготовка образцов для TEM;
- подготовка образцов для EBSD;
- полировка поперечных сечений;
- подготовка тонких пленок;
- исследование полупроводников;
- подготовка микроэлектронных компонентов;
- исследование литиевых аккумуляторов и токосъемников;
- подготовка металлических и керамических материалов;
- работа с полимерами;
- Цена: от 76 773 900 ₸


Отправка с 07 января 2027