Система нанесения покрытия магнетронным напылением

Состав системы

Система магнетронного распыления DXMS-450C состоит из камеры нанесения покрытия, магнитной контрольной мишени, стойки для образцов, контура рабочего газа, системы электропитания и управления, а также вакуумной системы.

Грушевидная камера для напыления, 1 комплект

• Размер: Φ450㎜×460㎜;
• Электрическая большая фланцевая крышка над вакуумной камерой, 1 шт.;
• Два 4-дюймовых целевых интерфейса магнетронного распыления на опорной пластине и регулируемую головку мишени;
• Фланцевый интерфейс CF150 используется для подключения вакуумной системы и интерфейса измерения вакуума;
• Два смотровых окна и соответствующие перегородки.

Регистрация и измерение вакуума
В камере напыления используется турбомолекулярный насос FF620 + механический насос -8 л/с, с максимальным вакуумом выше 8×10-5 Па, измеренным с помощью бытового цифрового композитного вакуумметра, а клапан порта молекулярного насоса представляет собой ручной затвор GV150.

Держатель образца в сборе:

• Размеры стола для подложек Φ150 мм, одновременно можно размещать одну подложку размером 2–6 дюймов или несколько небольших подложек;
• Максимальная температура нагрева подложки составляет ≥500 ℃;
• Подложка может вращаться автономно, а скорость регулируется и регулируется в диапазоне 2-10 оборотов в минуту;
• 1 комплект перегородок для проб;
• Нагреватель изготовлен из окисляемого материала;
• Выберите таблицу терморегуляции японского бренда;
• Будет приложено отрицательное напряжение смещения 0–200 В.

Мишень для магнетронного распыления

• Две магнетронные мишени диаметром 4 дюйма, установленные на нижней пластине вакуумной камеры, с регулируемым углом мишени, совместимые с ВЧ и постоянным током, с водяным охлаждением и возможностью нанесения покрытия методом распыления на одну или двойную мишень;
• Однородность в пределах 5-дюймовой эффективной площади покрытия ≤±5%;
• Однородность в пределах 2-дюймовой эффективной площади покрытия ≤±3%.

Нагнетательный газовый тракт:
В цехе нанесения покрытия имеются три впускных газовых тракта для массовых расходомеров (производства Китай), позволяющие контролировать подачу рабочего газа для аргона и кислорода. Кроме того, имеется один путь для газообразного азота. Три канала газа поступают в камеру нанесения покрытия через один запорный клапан сверхвысокого вакуума CF16.

Источник питания покрытия:

• Один комплект радиочастотного источника питания мощностью 500 Вт с возможностью автоматического согласования (производство Китай);
• Один блок питания постоянного тока мощностью 1000 Вт (производство Китай).

Рамка (стойка), 1 комплект

Управление системой:

• Электропитание: трехфазная пятипроводная система питания 380 В/50 Гц с защитой от утечки. Заземляющие провода для оборудования и электрошкафов управления.
• Оборудованы два шкафа питания международного стандарта, в которых установлены: 1 комплект основного источника питания управления, 1 комплект цифрового композитного вакуумметра, 1 комплект источника питания для контроля температуры нагрева стойки для образцов, 1 комплект источника питания привода стойки для образцов, 1 комплект источника питания освещения вакуумной камеры, 1 комплект источника питания молекулярного насоса, 1 комплект ВЧ-источника питания для нанесения покрытия и 1 комплект источника питания постоянного тока для нанесения покрытия.

Список конфигурации

Список запасных частей (расходные материалы)

Конечным пользователям необходимо только:
1. Подготовьте воду, электричество и сжатый воздух для лаборатории в соответствии с требованиями системы.
2. Подготовьте подложку, целевой материал и рабочий газ (например, аргон высокой чистоты), необходимые для процесса нанесения покрытия.

Требования к месту установки

• Место проведения: Площадь оборудования: 2 метра (длина) × 1,5 метра (ширина), для удобства эксплуатации необходимое пространство для всей системы составляет не менее 3,5 метра (длина) × 3,5 метра (ширина) × 2,4 метра в высоту. Входная дверь лаборатории должна быть не менее 1,85 метра в высоту × 0,95 метра (ширина). Для удобства обращения с оборудованием лабораторию лучше всего расположить на первом этаже.
• Окружающая среда: Температура окружающей среды составляет 10 ℃~30 ℃, а влажность не более 70%. Окружающая среда оборудования должна быть чистой, с чистым воздухом, не должно быть пыли или газа, которые могут вызвать коррозию электрических и других металлических поверхностей или вызвать проводимость между металлами. Земля покрыта терраццо или краской по дереву, без пыли. Оборудован выхлопными патрубками для отвода выхлопных газов механического насоса.
• Источник питания: 5 кВт, 380 В, трехфазный, пятипроводный, с заземляющим проводом.
• Охлаждающая вода: Температура на входе не должна превышать 20 ℃, давление на входе должно составлять 0,2–0,3 МПа, а скорость потока охлаждающей воды должна быть не менее 0,8 м.³/h.