Состав
Система в основном состоит из вакуумной камеры (камера для эпитаксии и камеры для ввода образцов, устройства для доставки образцов, стенда для образцов, вращающейся целевой платформы, вакуумного вытяжного устройства, измерения вакуума, управления электроприборами, распределения, компьютерного управления и так далее.
Технический индекс
| Модель | DXLMBE-450 | ||
| Основная вакуумная камера | Сфера, размер: Ø450мм | ||
| Камера для ввода проб, | Цилиндрический и горизонтальный, размер: Ø150*300 мм. | ||
| Конфигурация вакуумной системы | Основная вакуумная камера | Механический насос, молекулярный насос, лонный насос, сублимационный насос, клапан | |
| Камера для ввода проб | Механический насос, молекулярный насос, клапан | ||
| Предельное давление | Основная вакуумная камера | ≤5*10-8Pa (после обжига и дегазации) | |
| Впрыск образца | ≤5*10-3Pa (после обжига и дегазации) | ||
| Время восстановления вакуума | Основная вакуумная камера | Досягаемость 5*10-3Па через 20 минут (выдержите на воздухе на короткое время, надуйте сухой хлор, а затем начните вытяжку воздуха) | |
| Впрыск образца | Досягаемость 5*10-3Па через 20 минут (выдержите на воздухе на короткое время, надуйте сухой хлор, а затем начните вытяжку воздуха) | ||
| Вращающаяся мишенная платформа | Макс. Размер мишени: Ø70 мм, можно установить 4 мишени за один раз, можно достичь цели изменения оборотов, и каждая мишень может вращаться. Скорость вращения: 5-60 об/мин. | ||
| Нагревательная пластина подложки | Размер выборки | Ø51 | |
| Режим движения | Подложка может непрерывно вращаться. Скорость вращения: 5-60 об/мин | ||
| Тепло | МАКС. температура нагрева подложки 800℃±1℃ | ||
| Система воздушного контура | Качественный регулятор расхода, 1 канал, цельнометаллический угловой клапан, 1 канал | ||
| * Дополнительные детали | Дифракция быстрых электронов на отражение (RHEED) | Высокоэнергетический источник питания: Макс. энергия 25кВ, Макс. луч100мкА | |
| Колебание интенсивности RHEED, система контроля скорости роста | В основном состоит из веб-камеры, оборудования и пакета программного обеспечения для управления компьютером. | ||
| Устройство сканирования лазерного луча | Механический столик двумерного сканирования, выполняет два свободных сканирования. | ||
| Генератор кислородной плазмы и источник питания | |||
| Компьютерная система управления | Он контролирует вращение целевой пластины, вращение мишени, вращение образца, контроль температуры образца, сканирование лазерным лучом и так далее. | ||
| Квадрупольный масс-спектрометр | Массовый номер: 1-100 | ||
| Площадь пола | Базовый блок | 1300*850mm2 | |
| Электрический шкаф управления | 700*700mm2(2 комплекта) | ||
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Китай |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 18 декабря 2026