Двухкамерная система магнетронного распыления с грушевидными камерами
Цену уточняйте
- Под заказ
- Код: DXJ-560S
Отправка с 18 декабря 2026
Состав
Система в основном состоит из основной вакуумной камеры распыления, мишени магнетронного распыления, пластины теплового вращения с водяным охлаждением подложки, камеры впрыска образца, камеры образца, печи для отжига, мишени обратной промывки, устройства подачи магнитного образца, контура рабочего газа, системы откачки, монтажного шкафа, системы измерения вакуума и электронной системы управления.
Технический индекс
| Модель | DXJ-560S | |
| Основная вакуумная камера распыления | Пириформная вакуумная камера напыления, размер: Ø560*350 мм | |
| Камера для ввода проб, | Цилиндрический и горизонтальный, размер: Ø250*420 мм. | |
| Конфигурация вакуумной системы | Основная камера распыления и камера впрыска образца зависят от выхлопа независимых молекулярных насосов и механических насосов. | |
| Предельное давление | Основная камера распыления | 6,67*10-6Па (после обжига и дегазации) |
| Впрыск образца | ≤6,67*10-4Па (после обжига и дегазации) | |
| Время восстановления вакуума | Основная камера распыления | Достигните 6,6*10-4Па за 40 минут (выдержите на воздухе на короткое время, накачайте сухим хлором, а затем начните вытяжку воздуха). |
| Впрыск образца | Достигните давления 6,6*10-3Па за 40 минут (выдержите на воздухе на короткое время, накачайте сухим хлором, а затем начните вытяжку воздуха). | |
| Компонент мишеней для распыления постоянным магнетроном | Пять постоянных мишеней, размер мишени: Ø60 мм (Одна из них может распылять магнитный материал.) Радионапыление каждой мишени и распыление постоянным током совместимы. Расстояние между мишенью и образцом составляет 40-80 мм, которое можно регулировать. | |
| Подложка Тепловая революция с водяным охлаждением | Структура подложки | 6 станций, одна для установки нагревательной печи, другая для подложки с водяным охлаждением |
| Размер выборки | Ø30. Он может принять 6 штук | |
| Режим движения | 0-360° назад и вперед, вращение | |
| Тепло | МАКС. температура нагрева подложки 600℃±1℃ | |
| Отрицательное смещение подложки | -200V | |
| Система воздушного контура | Качественный контроллер расхода, 2 канала | |
| Конфигурация камеры ввода пробы | Модуль камеры для проб | Можно установить 6 образцов за один раз. |
| Модуль отжига | МАКС. температура нагрева подложки: 800℃±1℃ | |
| Модуль мишени обратной промывки | Применяется для обратной промывки основания. | |
| Учреждение по представлению магнитных образцов, | Применяется для отбора и отправки образцов из камеры распыления и камеры впрыска образца. | |
| Компьютерная система управления | Управление вращением образца, открытием перегородки и подтверждением целевого места. | |
| Площадь пола | Базовый блок | 2600*900mm2 |
| Электрический шкаф управления | 700*700мм2 (2 комплекта) | |
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Китай |
- Цена: Цену уточняйте